Pengaruh laju aliran gas SIH4/GeH4 terhadap karakteristik lapisan tipis (a-SiGe:H) dengan metode PECVD

Main Author: AZMI
Format: Bachelors
Bahasa: ind
Terbitan: FMIPA Unsyiah , 2005
Online Access: http://uilis.unsyiah.ac.id/uilis/index.php?p=show_detail&id=42946